三甲基镓
- 发布日期: 2020-09-15
- 更新日期: 2025-06-27
产品详请
产地 |
湖北
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货号 |
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品牌 |
永阔
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用途 |
简介:三甲基镓在常温常压下为无色透明有毒液体。在空气中易氧化,在室温自燃,燃烧时发出金属氧化物白烟。高温时自行分解。它在已烷、庚烷等脂肪族饱和烃和甲苯、二甲苯等芳香族烃中以任何比例相溶。与水激烈反应生成Me2GaOH和[(Me2Ga)2O]X,并放出甲烷气。
用途:三甲基镓可用于金属有机化学气相沉积(MOCVD),制备GaAs、AsGaAl等半导体化合物等,是制造发光二极管等电子元件的镓源,也用于太阳能电池的制造。
应用:三甲基镓(Ga(CH3)3,TMG)是MOCVD工艺技术生产光电材料如氮化镓等的关键MO源原料,为MO源化合物中应用最广泛的金属有机化合物。MO源,即金属有机化合物,是光电半导体材料行业等领域的重要金属来源,是MOCVD工艺(即金属有机化学气相沉积工艺)等工艺技术生产制备合成新型半导体光电化合物材料的基础源材料。
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英文名称 |
TRIMETHYLGALLIUM
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包装规格 |
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CAS编号 |
1445-79-0
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别名 |
三甲基镓(TMG);高纯三甲基镓;三甲基鎵;三甲基镓
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纯度 |
6N%
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分子式 |
C3H9Ga
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简介:三甲基镓在常温常压下为无色透明有毒液体。在空气中易氧化,在室温自燃,燃烧时发出金属氧化物白烟。高温时自行分解。它在已烷、庚烷等脂肪族饱和烃和甲苯、二甲苯等芳香族烃中以任何比例相溶。与水激烈反应生成Me2GaOH和[(Me2Ga)2O]X,并放出甲烷气。
用途:三甲基镓可用于金属有机化学气相沉积(MOCVD),制备GaAs、AsGaAl等半导体化合物等,是制造发光二极管等电子元件的镓源,也用于太阳能电池的制造。
应用:三甲基镓(Ga(CH3)3,TMG)是MOCVD工艺技术生产光电材料如氮化镓等的关键MO源原料,为MO源化合物中应用最广泛的金属有机化合物。MO源,即金属有机化合物,是光电半导体材料行业等领域的重要金属来源,是MOCVD工艺(即金属有机化学气相沉积工艺)等工艺技术生产制备合成新型半导体光电化合物材料的基础源材料。