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三甲基镓
  • 英文名称:TRIMETHYLGALLIUM
  • 品牌:永阔
  • 产地:湖北
  • cas:1445-79-0
  • 发布日期: 2020-09-15
  • 更新日期: 2025-06-27
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产地 湖北
货号
品牌 永阔
用途 简介:三甲基镓在常温常压下为无色透明有毒液体。在空气中易氧化,在室温自燃,燃烧时发出金属氧化物白烟。高温时自行分解。它在已烷、庚烷等脂肪族饱和烃和甲苯、二甲苯等芳香族烃中以任何比例相溶。与水激烈反应生成Me2GaOH和[(Me2Ga)2O]X,并放出甲烷气。 用途:三甲基镓可用于金属有机化学气相沉积(MOCVD),制备GaAs、AsGaAl等半导体化合物等,是制造发光二极管等电子元件的镓源,也用于太阳能电池的制造。 应用:三甲基镓(Ga(CH3)3,TMG)是MOCVD工艺技术生产光电材料如氮化镓等的关键MO源原料,为MO源化合物中应用最广泛的金属有机化合物。MO源,即金属有机化合物,是光电半导体材料行业等领域的重要金属来源,是MOCVD工艺(即金属有机化学气相沉积工艺)等工艺技术生产制备合成新型半导体光电化合物材料的基础源材料。
英文名称 TRIMETHYLGALLIUM
包装规格
CAS编号 1445-79-0
别名 三甲基镓(TMG);高纯三甲基镓;三甲基鎵;三甲基镓
纯度 6N%
分子式 C3H9Ga
简介:三甲基镓在常温常压下为无色透明有毒液体。在空气中易氧化,在室温自燃,燃烧时发出金属氧化物白烟。高温时自行分解。它在已烷、庚烷等脂肪族饱和烃和甲苯、二甲苯等芳香族烃中以任何比例相溶。与水激烈反应生成Me2GaOH和[(Me2Ga)2O]X,并放出甲烷气。
用途:三甲基镓可用于金属有机化学气相沉积(MOCVD),制备GaAs、AsGaAl等半导体化合物等,是制造发光二极管等电子元件的镓源,也用于太阳能电池的制造。
应用:三甲基镓(Ga(CH3)3,TMG)是MOCVD工艺技术生产光电材料如氮化镓等的关键MO源原料,为MO源化合物中应用最广泛的金属有机化合物。MO源,即金属有机化合物,是光电半导体材料行业等领域的重要金属来源,是MOCVD工艺(即金属有机化学气相沉积工艺)等工艺技术生产制备合成新型半导体光电化合物材料的基础源材料。
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